ساخت دستگاه لایه بردار با کاربرد در صنایع فضایی و خودرو

محققان یکی از شرکت های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران، در حالی دستگاه لایه برداری با کاربرد در صنایع خودروسازی و فضایی را بومی سازی کردند که این دستگاه در لیست تحریم قرار گرفته بود.

- محققان یکی از شرکت های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران، در حالی دستگاه لایه برداری با کاربرد در صنایع خودروسازی و فضایی را بومی سازی کردند که این دستگاه در لیست تحریم قرار گرفته بود.

به گزارش سایت قطره و به نقل ازایسنا، یکی از شرکت های دانش بنیان مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران فعالیت خود را از سال 1389 در حوزه فناوری پلاسما آغاز کرد.

طراحی و ساخت دستگاه لایه نشانی شیمیایی بخار توسط پلاسمای جریان مستقیم (DC-PECVD) برای استفاده در تحقیق، توسعه و ساخت فیلم های نازک، و همچنین دستگاه زدایش عمودی سیلیکون (Deep Reactive Ion Etch) به عنوا ن ابزاری برای ایجاد ساختارهای نانویی از محصولات دانش بنیان این شرکت است.

لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD) یکی از مهمترین روش های پوشش دهی است که امروزه کاربردهای آن در حوزه صنعتی و تحقیقاتی بسیار گسترده شده است.

لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار پلاسمایی (PECVD) نیز نوعی فرآیند CVD است که حضور محیط پلاسما همه فرآیندهای CVD را تحت تاثیر قرار می دهد و سرعت و بازدهی انجام واکنش های مرتبط را در دماهای به نسبت پایین ت�